Серия кластерного вакуумного оборудования на основе уникального источника энергосберегающего источника плазмы высокой плотности, которая реализует процессы вакуумного ионно-плазменного нанесения, травления...
Серия вакуумного высокотехнологического оборудования, предназначенная для нанесения тонких пленок в вакууме на крупногабаритные и объемные изделия.На установке обеспечиваются следующие процессы:• Нанесение...
Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 100 мм. Мишени...
Автоматизированная установка магнетронного, термического и ионно-лучевого напыления на керамические, кремниевые, ситаловые и другие плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 100 мм.Мишени...
Автоматизированная установка магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150x350мм).Магнетроны...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного нанесения упрочняющих, коррозийно-стойких, декоративных покрытий на изделия, такие как лопатки турбин, инструменты, корпуса и прочее.Установка...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для двустороннего магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для двустороннего магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 150 мм (максимальная...
Вакуумно-технологическая установка предназначена для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких пленок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 250...
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин диаметром до 200 мм снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения...
Установка поштучной обработкой пластин до 150 мм снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ №2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом...