Описание
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин диаметром до 200 мм снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.
Конструкция генератора плазмы и стола травления позволяют получать на обрабатываемых подложках потоки ионов 5÷10 мА/см2 и более с энергией от 20 до 300 эВ и более, регулируемой генератором смещения подложки.
Для улучшения теплопровода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод», который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.