Описание
Вакуумно-технологическая установка предназначена для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких пленок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 250 мм.
Установка полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин. Снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ №2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.
Для улучшения теплопровода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод» (дополнительная опция), который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.