Описание
Вакуумно-технологическая установка предназначена для травления тонких слоев резистивных сплавов, металлов и диэлектриков на любых плоских (толщина не более 30 мм) подложках диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150x320мм).
Установка имеет два вертикально установленных протяженных ионных источника с размером ионного луча на вертикали 350 мм. Травление может производиться через фоторезистивную или металлическую маску.