Описание
Вакуумно-технологическая установка предназначена для магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150x650мм).
Данная установка предназначена для обработки больших объемов изделий в серийном производстве. Магнетроны (от 1 до 4 шт.) устанавливаются внутри барабана. Напыление ведется на изделия, закрепленные в носителях на внутренней стороне, вращающейся вокруг вертикальной оси барабана.
Установка комплектуется магнетронами от одного до четырех штук для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.