Описание
Вакуумно-технологическая установка предназначена для двустороннего магнетронного нанесения на керамические, кремниевые и любые плоские подложки (толщина не более 30 мм) диаметром до 150 мм (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150x350мм).
Установка оборудована сложной дверью, на которой располагаются два нагревателя и ионный источник. Соответственно, установка комплектуется четырьмя парами магнетронов. Магнетроны располагаются внутри барабана - 4 шт. снаружи и 4 шт. в специальных дверях.
Напыление ведется на изделия, закрепленные в носителях на внутренней и внешней стороне, вращающейся вокруг вертикальной оси барабана.
Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п.