Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П - собственная разработка и производство ООО...

Цена: цену уточняйте

в наличии

Цены в категории: 12 ₽ — 5 000 000 ₽

ООО «СИТЭК»

Москва — На сайте с 13 сен 2019

Телефон: +7 (495) 532-09-99

Адрес компании: 125315, г. Москва, ул. Часовая, д. 28, корп. 4
Доставка, самовывоз: Москва

Пожаловаться

Описание

Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П - собственная разработка и производство ООО «СИТЭК»

Назначение

Плазмохимическое осаждение из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4, и др.);

Удаление фоторезиста в кислородной плазме;

Плазмохимическое травление широкого спектра материалов, очистка и модифицирование поверхности подложек и структур;

Атомно-слоевое осаждение тонких конформных слоев.

Установка имеет компактные размеры и выполнена в виде моноблока. Реактор выполнен из нержавеющей стали с постоянным верхнем фланцем, несущем на себе функции нагрева и удержания образцов. На нижнем фланце располагается узел генерации индуктивно-связанной плазмы. Загрузка образцов – фронтальная через порт быстрого доступа. Баллоны с газами располагаются в дополнительном шкафу (поставляются отдельно). Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.

Основные параметры

- поштучная обработка образцов диаметром до 100 мм;

- расположение образцов – лицом вниз;

- максимальная температура и способ нагрева – 600 ºС, ламповый;

- тип плазмы – индукционно-связанная (плоский воздушно охлаждаемый индуктор);

- мощность и частота генератора – 600 Вт, 13.56 МГц;

- согласование импеданса генератора с нагрузкой – устройством на базе вакуумных переменных конденсаторов с ручной регулировкой;

- количество газовых каналов, максимальный расход, способ регулирования – два, 100 см3/мин, посредством электронных регуляторов расхода;

- способ ввода газов в реактор – раздельный, струйный, распределенный (две кольцевые трубки с калиброванными отверстиями);

- управление – ручное или автоматическое с лицевой панели (программируемый логический контроллер MITSUBISHI, возможность выбора длительностей ростовых интервалов, одновременной или поочередной подачи газовых реагентов, температуры);

- контроль давления – химически стойкими мембранными датчиками MKS Baratron, блокировки на открытие клапанов;

- тип откачного насоса и предельный вакуум – роторный масляный c фильтрами на входе и выходе, 10-3 торр;

- рабочее давление в реакторе – 10-2 – 5*10-1 торр, определяется потоком газа на входе;

- реактор из нержавеющей стали без водяного охлаждения, с загрузочным портом, оборудованным смотровым окном диаметром 100 мм, ручной заслонкой, дополнительным защитным стеклом;

- сжатый воздух - не требуется;

- питание - 220 В, не более 3 кВт;

- габариты размеры 500х600х1600мм, масса не более 150 кг;

Дополнительные возможности по требованию заказчика

- доукомплектование системой для перевода жидких реагентов в газовую фазу при постоянных давлении и температуре;

- дополнительно устанавливаемый турбомолекулярный насос производительностью до 350 л/с с фланцем DN 63.